Magas szintű anyag szilícium -nitrid

Távoli körülmények között a szilíciumpor teljesen nitride lehet az SHS folyamatbanszilícium -nitrid, és a terméknek magas nitrogéntartalma és alacsony oxigéntartalma van, de ez fázis. A szilícium füstben SHS reakcióban megfelelő mennyiségű Si _3 n _4 vetőmagot kell hozzáadni; A szilícium SHS égési hullámának terjedési sebessége növekszik a nitrogénnyomás növekedésével és a reagens töltési sűrűségének csökkenésével, de független a reagens összetételétől és a minta átmérőjétől. Az égési hullám hőmérséklete növekedett a nitrogénnyomás növekedésével és a minta átmérőjének növekedésével, amely független volt a reagensek összetételétől és a töltési sűrűségtől.

1.Szilícium -nitridA filmeket plazma kémiai gőzlerakódási (PECVD) technológia alkalmazásával készítettük különböző lerakódási körülmények között (20 ~ 180 fokos szubsztrát hőmérsékleti tartomány és 10 ~ 30 W), és megvizsgáltuk a lerakódási körülmények hatását a szilícium -nitrid -fóliák tulajdonságaira és vízálló tulajdonságaira. A kísérleti eredmények azt mutatják, hogy a szubsztrát hőmérsékletének növekedésével a szilícium -nitrid -filmek sűrűségének, törésmutatója és Si/N aránya ennek megfelelően növekszik, míg a lerakódási sebesség és a H -tartalom ennek megfelelően csökken. Az RF teljesítményének növekedésével a szilícium -nitrid -filmek lerakódási sebessége, sűrűség, törésmutató és Si/N aránya ennek megfelelően növekszik, míg a H -tartalom ennek megfelelően csökken. A vízgőz -permeációs kísérlet azt mutatja, hogy még akkor is, ha a szubsztrát hőmérséklete 50 fokra csökken, a lerakódott szilícium -nitridfilm továbbra is jó vízálló teljesítményt nyújt. A kísérleti eredmények azt mutatják, hogy az alacsony hőmérsékletű szilícium-nitridfilmek hatékonyan alkalmazhatók a szerves fénykibocsátó eszközök (OLED) csomagolására.

Népszerű tags: Magas szintű anyagi szilícium -nitrid, Kína magas szintű szilícium -nitridgyártók, beszállítók, gyár