Melyek a tantál célpontok fő felhasználási területei?

Nov 20, 2024

Hagyjon üzenetet

Tiszta tantál lap/fólia/tömb/tábla/rúd/drót/cső/lemez nagy tisztasággal 99,95%-99,99%

 

ZhenAn 4N Tantál Ta Pure Metal Target nagy méretű tantál porlasztó célanyagok

 

Ta10w tantál lemez tantál volfrám ötvözet lemezek

 

 

Melyek a tantál céltárgyak fő felhasználási területei?

 

A tantál céltárgyak egyik leggyakoribb felhasználási módja különféle sugárforrások, például elektronsugarak és röntgensugarak célanyaga. A tantál saját tulajdonságai miatt a legjobb nyersanyag az ilyen típusú alkalmazásokhoz, mert ellenáll a magas hőmérsékletnek és a sugárzásnak anélkül, hogy megsérülne vagy elveszítené hatékonyságát.

 

A tantál céltárgyakat általában az elektronsugaras olvasztásban (EBM) és az elektronsugaras hegesztésben (EBW) használják. Ezekben a folyamatokban az elektronsugarat fémek olvasztására és összehegesztésére használják. Az EBM folyamat során tantál céltárgyat használnak, amelyet egy elektronsugár útjába helyeznek. Az elektronok eltalálják a célpontot, amitől az felmelegszik, és végül megolvasztja a feldolgozott fémet. Ezt az eljárást gyakran használják különböző fémek és ötvözetek összekapcsolására, mert nagyfokú pontosságot és ellenőrzést tesz lehetővé. Ezen túlmenően az elektronsugár által keltett intenzív hő felhasználható összetett formák és szerkezetek kialakítására.

 

A tantálot röntgenforrásokban is használják. A röntgenforrások röntgensugarakat állítanak elő úgy, hogy egy tantál célpontot nagy energiájú elektronokkal bombáznak. Az elektronok kölcsönhatásba lépnek a célponttal, röntgensugarakat hozva létre, amelyeket azután a vizsgált tárgy felé irányítanak. Az eljárást gyakran használják orvosi képalkotásban és más ipari alkalmazásokban, mert részletes képet ad egy objektum belső szerkezetéről.